特長

安全性と使いやすさを極めました。

ロードロック室に基板を投入し、成膜条件を選択して『START』ボタンを”ワンクリック”するだけで、ロードロック室を大気圧からE-4Paまで10分以内で真空排気→基板ロード→自動蒸着プロセス→基板アンロードまで全自動で行う装置です。

ユーザーインターフェースは27インチモニターの視認性とマウスにより使いやすさに配慮され、膜厚コントローラと連携された成膜レシピ制御ソフトウエアはプロセス数およびレイヤー数を制限なく保存できます。

メンテナンスも容易に。

蒸着室は6.4kW回転式6連電子ビーム蒸発源を搭載し高融点金属や酸化物など様々な材料を蒸発可能で、かつ、基板冷却機構搭載によるリフトオフ蒸着、蒸着室チェンバーおよび脱着式防着板の真空脱ガス処理（450℃-10時間）による低ガス放出、大型前面ハッチによるメンテナンス性に配慮した設計となっており、ご使用頂いたお客様から高評価を頂いております。

省スペース化された電子ビーム蒸発源搭載８インチ基板対応全自動蒸着装置

”独自の基板搬送機構”を採用し、装置設計コンセプトである『省スペース』を実現しています。